半导体硅片等离子清洗机晶圆级等离子活化系统晶圆表面活化
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更新时间：2023-06-08 15:43:01 信息编号：s4nubh3a95277

￥38600

≥ 1台

价格：
38600.00 元
品牌：
其它
用途：
实验用
关键词：
等离子清洗机,晶圆级等离子活化系统,晶圆表面活化,半导体硅片清洗机

孟工

15515779506

2490833244

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详情介绍

商品别名	等离子清洗机,等离子活化,等离子除胶,等离子蚀刻	面向地区	河南郑州	品牌	其它
用途	实验用	槽数	1	适用领域	电子行业

半导体硅片等离子清洗机晶圆级等离子活化系统晶圆表面活化

半导体硅片等离子清洗机晶圆级等离子活化系统晶圆表面活化
等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

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